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光電製程清潔系列 |
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洗威™ 鋁合金有機聚合物清潔劑AHLR03
(別名：乾蝕刻真空腔體零件清洗劑) |
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乾蝕刻真空腔體中，被plasma擊打離子化後的材料，未即時抽出而沉積附著零件的表面。日積月累，可能會游離釋出；逆污染被蝕刻的工件。圖中顯示ESC
Parts(TEL8500 /VIA
ETCH)上的有機附著物經AHLR03擦拭後，污染物已顯著去除；清潔後，鋁合金本體、陽極膜、鍍層都不受影想，也不會受傷。AHLR03也被成功應用於聚亞醯胺(polyimide)的乾蝕刻真空腔體的清潔。 |
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洗威™ 可剝膠去除劑AHLR03-GU (別名：
保護膜去除劑、易撕膜清潔劑、UV固化膠清洗劑) |
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玻璃面板或鏡面金屬板在運輸、加工、儲放過程中，為了避免刮傷，會貼上保護膜或噴塗一層UV固化的可剝膠。在過去，撕下這層可剝膠後，多使用人工方式將些微的殘膠擦拭乾淨。但是若前製程經過CNC切割，拋光等，保護貼撕下後，沿者保護膜外圍會有一圈難去除的殘留物。以傳統人工擦拭耗時費力。全新研發的中性可剝膠去除劑AHLR03-GU，能在超音波或滾刷機自動清洗線中，快速的移除殘膠。且不傷害ITO、鋁板、鋁線等軟金屬。
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洗威™ 微塵清洗劑PTC09B (別名：OGS面板清洗劑
ITO玻璃清洗劑) |
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OGS觸控面板因為結構與材質較複雜，多數同時裸露ITO線路、鋁線、銀線、銅線、SiO2鍍層，有些還有氧化銦鎵鋅、抗指汙氟化物、AR
coating...等；在不影響電性且對清潔度的高度要求下，OGS面板的自動化清潔困難度越來越高。中性的微塵清洗劑PTC09B，能在不影響OGS電性、ITO電阻值、透明度的前提下，有效的清潔OGS面板。目前已成功應用於自動化清洗線，減少最終端人工擦拭的需求；同時提供遠超過人工擦拭的清潔度與穩定度。 |
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洗威™ 微塵清洗劑PTC17 (別名：
玻璃清潔劑、樹脂particle清潔劑、灰塵清洗劑) |
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透鏡外框塗佈GT7黑色油墨後，需要經過烘箱加熱固烤。
觸控面板或液晶螢幕的外圍，不論採用網印或以光罩製作BM的製程，黑色油墨經UV固化或熱固化過程中，難免會有out
gas產生，這些游離的樹酯單體，再次附著於透鏡可視區或面板圖形區時，變成難纏的particle。由於這類的灰塵具有硬化有機polymer的特性，遠比一般的油滴、皮屑、灰塵難以清除。全新開發的微塵清洗劑PTC17，採用最新的介面活性劑技術，能滲透、包覆樹脂型的微粒，使其輕易從表面脫落
，卻不傷害已經成膜硬化的GT7油墨。已成功應用於透鏡清洗、高畫數image sensor、wafer清潔。
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洗威™ 硬化油墨清洗劑ACHM01-G (別名：
酸性Epoxy清除劑、酸性剝漆劑、硬化油墨分解凝膠) |
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GT-7黑色epoxy油墨在光學界長期被使用於黑框塗佈。由於其成分中含有焦煤油(coal
tar)，因此剝除硬化後的GT7，往往使油墨剝除劑快速老化。在現有的強鹼性油墨去除劑中，常常會有剝除不乾淨的缺點。而現有的酸性油墨去除劑，除了有強烈的酸味外，還會腐蝕不鏽鋼金屬製具。全新開發的硬化油墨清洗劑ACHM01-G，克服以上缺點；味道輕微、壽命長、油墨剝除後不會有殘點。ACHM01-G同時也開發出凝膠劑型ACHM01-GG，可以附著於垂流面，不會滴落。應用於剝除漆包線的絕緣漆，可以有效替代二氯甲烷。
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洗威™ 硬化油墨清洗劑ACHM04-A (別名：Epoxy剝除劑、AB膠分解劑、
硬化PU膠分解劑) |
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wafer封裝時難免有溢膠，而溢出的黑膠經固烤後，能快速清除殘膠是製程重要的課題。同樣的，EPOXY系或PU系、壓克力系的AB硬化膠，強調萬能不滅，有更好的硬度，耐熱、耐光、耐磨、耐化學性...但是一旦固化後，要清除就更加不容易。現在，全新開發的硬化油墨清洗劑ACHM04-A，中性的pH值，能更廣泛的應用在各種材質上進行除膠工作。ACHM04-A還有一款凝膠劑型：ACHM04-AG，能應用在異方性導電膠ACF的去除，不含氟氯溴等毒性鹵素溶劑，味道輕微，更環保。已廣泛被國際大廠指定使用。
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洗威™ 微塵清洗劑 PTC13與PTC18 (別名：
鍍層剝除劑) |
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玻璃、透鏡、菱鏡與反射鏡，隨著抗眩光、抗反射、過濾紅光藍光、抗指汙...等等的需求越來越多。玻璃上的鍍層也越來越多總類。現在微塵清洗劑
PTC13已經成功應用於剝除多種epoxy、壓克力、PU等有機polymer的coating，而微塵清洗劑
PTC18則成功應用於剝除二氧化矽SiO2/二氧化鈦TiO2,Ti3O5/氟化鎂MgF2/氧化鉭Ta2O5/氧化鋁Al2O3等多層次無機金屬鍍層。
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洗威™ 氧化銅擦拭劑CuP01 |
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金手指在使用一段時間後，表面佈滿氧化物，導致接觸不良。同樣的，為避免因氧化而接觸不良，封裝廠在封裝前，往往使用”牙膏”等研磨材料將接點的氧化層擦掉。但是這個動作有點麻煩，因為擦拭後，牙膏類的研磨材殘留不好去除。使用CuP01氧化銅擦拭劑則不會有上述的問題。CuP01氧化銅擦拭劑可以迅速揮發，幾乎不殘留藥劑在接點上；並且完全溶於酒精，以酒精再擦拭一次，可以確保要求極精密無殘留的品管苛求。
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洗威™
硬化油墨清洗劑ACHM01 |
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好的油墨，不論是熱硬化型或UV硬化型，都強調[萬能不滅]；耐磨、耐光、耐熱、耐酸、耐鹼、耐溶劑。問題是，會印壞；有時候烘烤時暈開了，有時候印的不均勻，有時候不小心沾黏、有時候印的堅牢度不夠...總之，印壞時怎麼辦？洗威™
硬化油墨清洗劑ACHM01提供了一種解答。ACHM01同時也能清除Epoxy黑膠封裝時，溢出在plate或玻璃上的黑膠樹脂。 |
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洗威™
合成除膠劑SynGC07 |
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觸控面板CG與Sensor的貼合，不論是sheet
OCA或液態光學膠，都會有各樣的瑕疵導致貼合不良。而重工剝膠液除了使用敝公司天然柑橘油系統除膠劑NGC01，NGC02外，針對不同公司的PSA膠，我公司還開發了合成除膠劑SynGC01~07，以對應不同的除膠需求。合成除膠劑比天然除膠劑閃火點更高(>80degC)，味道更淡，可符合嚴謹的工安要求。
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洗威™ 二氧化矽薄膜清洗劑SMC03 |
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在半導體製程中，設備上經plasma氣相層積長出來的二氧化矽及氮化矽薄膜，具有非常緊密的結構。以強酸雖能去除，但是不鏽鋼或鋁合金表面遭到侵蝕變色，比不清洗還糟。
洗威™二氧化矽薄膜清洗劑SMC03，pH
7.0中性的酸鹼值，不傷害金屬表面，是高精度要求的新選擇。
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洗威™
氮化鎵清洗劑SMC04 |
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LED使用plasma壘晶氮化鎵(Nitrided gallium, GaN)，氣相沉積的chamber或tray也同時遭到氮化鎵污染。一段時間後，若不清洗乾淨，只能選擇報廢。
洗威™
氮化鎵清洗劑SMC04提供有效的清洗答案。
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洗威™矽膠清洗劑SGC01(別名：Epoxy清除劑
、剝漆劑) |
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洗威™矽膠清洗劑SGC04(別名：Epoxy清除劑
、剝漆劑) |
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Cover
Glass (CG, or Cover
Lens)外框油墨，不論是黃光製程的BM光阻劑或網印烘烤固化型的油墨；共同的特色就是：堅牢、耐厚、不好去除。使用溶劑型的剝除劑，除了味道臭、VOC造成的工安問題外，藥劑壽命太短、配槽頻繁、槽液管理困難是普遍的現象。洗威™
矽膠清洗劑SGC04採用特殊的界面活性劑技術，使用時味道輕微，藥劑壽命長，剝除效果更快。它可去除多種材質的有機polymer，包含PU、nylon、acrylic、PI、PC、epoxy、silica
glue、及抗炫光塗層等。SGC04能產生大於-45mv的介面電位(zeta
potential)，使工件/玻璃表面與particle形成有效的排斥負電壓。搭配獨特的耐鹼短碳煉介面活性劑，除了剝除硬化油墨外，還能有效去除多種的無機和有機particle。
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洗威™ 聚亞醯胺清洗劑Polyimide Cleaner |
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聚亞醯胺膜隨著烘烤溫度增加，親水性官能基越加減少，也越難清洗去除。 在TFT/CF製程中，聚亞醯胺薄膜經低溫烘烤後，如何選擇性的單單去除Polyimide，而不傷害其他的塗層，是製程中的一項課題。
洗威™聚亞醯胺清洗劑PIC01~PIC06能完全清洗至素玻璃再次重工，也能選擇性的單單去除Polyimide。能單單去除低溫烘烤聚亞醯胺膜，也能強效至400度C高溫烘烤後的PI膜，照樣清潔溜溜。 更多資訊.. |
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洗威™微塵清洗劑 PTC04 |
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在化強玻璃或素玻璃的清潔上，過去都採用含有KOH配方的清潔劑。隨著KOH對玻璃的微蝕刻現象漸漸被發現；浸泡硝酸鉀化強的玻璃隨著儲放時間漸漸吐出鉀離子，導致玻璃白霧化的狀況經常出現；碳鏈數長的介面活性劑沾粘殘留於玻璃，不易潤洗乾淨...等問題越來越
受到注意。新一代技術的微塵清洗劑PTC04已成為一線面板廠商清洗玻璃時採用的最佳選擇。PTC04能產生大於-36mv的介面電位(zeta
potential)，使工件/玻璃表面與particle形成有效的排斥負電壓。搭配獨特的耐鹼短碳煉介面活性劑，能有效去除多種的無機和有機particle。
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洗威™微塵清洗劑 PTC05 |
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在觸控面板製程中，ITO導電玻璃/PET
於印刷圖形遮蓋後，會進行酸液的蝕刻製程。但是蝕刻槽使用約1周後，PVC及UPVC槽體與管路會佈滿膠狀Particle。以液鹼清洗效果有限，效率差，造成後段製程良率降低。洗威™
微塵清洗劑，能在簡單的浸泡回流下，徹底清潔槽體與管路。
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洗威™微塵清洗劑 PTC06 |
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ITO導電玻璃因長時間儲放，氧化銦錫(Indium
tin
oxide)汽化與空氣中的微塵混合附著於導電玻璃的另外一側。在暗室中觀察可以清楚看見羽狀或霧狀的污染物附著。
要清洗此污染物，需考慮污染物成分與導電玻璃另一側的氧化銦錫鍍層成分相近；不適當的清洗將導致氧化銦錫鍍層永久性的傷害。
PTC06是為此清洗目的設計的專用清洗劑。目前已成功應用於業界。 |
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洗威™陶瓷基材清潔劑CSC01
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過去清洗陶瓷或玻璃上的oxide或經plasma蝕刻後的沉積物常使用強酸或強鹼清洗。KOH或HF等腐蝕性清洗效果雖然好，但是對治具的傷害大，表面上常有細微裂紋產生。
洗威™陶瓷基材清潔劑使用介面活性劑技術，成功在弱鹼條件下達到相同的清洗效果。更使得治具的使用壽命可以延長。適用玻璃與陶瓷材質的清洗。不含氟氯溴碘等毒性鹵素元素。
不含KOH，HF等，不會造成玻璃與陶瓷工件表面的侵蝕與裂紋。 
可有效澎潤石英治具上 氧化釔Plasma塗層，在超音波震盪下使其剝離而完全不傷害石英。清洗Oxide附著物快速有效。
100%可生物分解，無環保傷害。
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洗威™矽膠清洗劑 |
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Silicon系列的黏合膠具有較好的安定性。耐強光、耐酸鹼、耐溶劑，不脆化發塵。廣泛用於ITO板與偏光板貼合，半導體攝影蝕刻新製程中，暴露在波長更短、焦爾數更高的光罩護膜與光罩的貼合...等。但是矽膠特性越安定，也表示當製程遇到清除需求時，清除矽膠是格外的困難。
全新開發的 洗威 矽膠清洗劑 成功解決矽膠清洗的問題。請點選這裡觀察放大的手機觸控面板矽膠清洗一半的圖片。 |
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洗威™微塵清洗劑 |
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洗威
微塵清洗劑分成中性、弱鹼、強鹼型。型態分成液體及粉體型。適合各種材質的治具或工件清洗。可有效清除油滴、有機及無機partilce、碳粒、灰份、氧化鎂、氧化鈰研磨粉末等。
已成功應用於光罩護膜治具的清洗及玻璃基板和塑膠鏡頭的清洗。 |
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洗威™回收光碟清洗劑RDC01 |
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現有的光碟回收技術，乾式法研磨耗時耗力，磨後PC片受傷模糊；粉泥含有塗裝層及大量PC粉末，銀鋁等貴金屬含量太低不值得回收。現有的濕式法，則難以避免造成PC片受傷脆裂、因溶劑滲入沾黏，PC塑膠在回收時恐含有過多雜質。��
洗威 回收光碟清洗劑 採用最新的介面活性劑技術，在5~10分鐘的浸泡後可將光碟外部塗層輕易分離，以履帶式濾網分離後，在震動槽中30~50分鐘可進一步將金屬層剝離。清洗後可得彈性良好、光潔透明、毫無瑕疵的PC碟片。若於震動前預先粉碎，則即使在兩片PC片夾層中的金屬層易可輕易剝離。
回收光碟清洗劑已開發完成，目前正在招商中。
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洗威™回收光碟清洗劑RDC02 |
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背光模組的擴散片上佈滿許多小小的微粒，這些微粒使的光線透過時，產生多方性的散射而達到光擴散的效果。但是這些微粒也使的塑膠片再回收利用時變成很大的困擾。
現在，RDC02可以輕鬆剝除塑膠片上的微粒，使得回收利用變的更容易。
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洗威™晶圓切割矽粉架橋劑SCA01 |
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晶圓切割產生的廢棄PEG切削油內含40~50%微小的矽粉。使用0.5μm
濾袋亦無法過濾(參看下圖)。��
在PEG切削油中加入矽粉架橋劑可以有效凝集微小的矽粉，並過濾出澄清的PEG切削油。可用於金屬加工或鍋爐燃料。
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洗威™TRM殘膠去除劑 |
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TRM是指Thermal
Resist Masking tape。 TRM殘膠去除劑則是用於去除IC封裝後，於烘烤中收縮撕落的Masking
tape殘留在金屬板上silica殘膠。
將含有silica殘膠的plate置於夾具靜置在超音波清洗機中清洗，取出後移至含有樹酯砂的水刀機中噴洗即可有效去除。
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洗威™EPOXY溢膠去除劑 (化學除膠劑) |
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IC封裝新製程中已鍍好鈀的plate並不適合跑傳統的電解除膠製程。而封裝材環氧樹酯(Epoxy)，具有很好的化學耐受性。洗威TM
EPOXY溢膠去除劑 能滲透鈀與Epoxy兩個不同的材質間存在著的介面，將溢出的Epoxy膠去除。
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UniMagicTM 電解除膠劑
加入電解槽中，以5V 100A電流跑電解製程。有效清潔銅片EPOXY溢膠及微量油膜，粉塵及灰份。 |
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UniMagicTM 電解脫脂劑
加入電解槽中，以5V
100A電流跑電解製程。有效清潔銅片油脂及微量粉塵及灰份。 |
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洗威™壓克力樹酯膠清潔劑 |
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置於夾具在超音波清洗機中清洗，能迅速的清潔附著在模具上或玻璃鏡片上最難清洗的壓克力膠、蟲膠及巧克力膠。取出後移至純水槽潤洗即可。��
不含氟、氯、溴等毒性鹵素元素。
不含苯環類芳香族有機溶劑，於高溫清洗時不產生惡臭氣體。
過水性佳。泡沫低。以大量清水沖洗，能迅速洗淨，不殘留。
生物分解性佳，合乎環保要求。
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UniMagicTM
天然除膠劑
(別名：光罩殘膠清除劑、壓克力膠清除劑) |
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光罩護膜(Pellicle)可保護光罩清潔，並可模糊
落塵於攝影時產生的陰影。但是使用後留在MASK上的殘膠，卻形成光罩清潔的問題。由柑橘萃取的天然除膠劑是天然、無毒、無環保傷害、低揮發的新型溶劑，對於各種背膠、壓克力膠、矽脂膠…均能輕易的軟化並瓦解其成膜結構，背膠不回黏，增加工作效率。
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洗威™覆膜去除劑 |
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用於雷射印表機碳粉匣上的銅片，於出廠時批覆一層薄膜以防止銅片受損。過去在組裝前需以人工方式撕膜，擦拭除膠；除了耗時費工外，還因擦拭可能產生的刮傷致使良率下降。
全新開發的洗威TM覆膜去除劑改善了傳統的除膜製程。新製程只要將銅片連同薄膜浸泡在覆膜去除劑中5分鐘，薄膜膨潤後取下以清水潤洗即可。可以在10分鐘內同時處理數十萬支甚至數百萬支的除膜工作。不需擦拭，瑕疵率幾乎為"零"。
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